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dc.contributor.advisorMina, Nairmen
dc.contributor.authorPérez Almodóvar, Delvis
dc.date.accessioned2018-04-09T15:01:03Z
dc.date.available2018-04-09T15:01:03Z
dc.date.issued2012
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/20.500.11801/359
dc.description.abstractA randomized complete block design experiment with six aluminum (Al) concentrations was carried out to evaluate the effect of aluminum on nutrient content, dry matter (DM) production and Al-induced organic acid exudation in rambutan (Nephelium lappaceum). Rambutan cultivar cv. Jitlee was grown in nutrient solution at pH 4.0 with 1.0, 2.3, 4.1, 6.7 and 10.2 mM Al and without Al. The results revealed that all growth variables were significantly reduced with increasing concentration of Al in the nutrient solution. Nevertheless, even at an aluminum concentration of 3.5 mM, rambutan plants grew relatively well, confirming that this crop is highly tolerant to high Al as compared to other crops. Analyses of root exudates for the presence of organic acids showed no detectable amounts in solution. Accumulation of Al in leaves, stems and roots suggests the existence of an Al- sequestration mechanism in rambutan which may involve an Al-ligand complex which translocates from roots to shoots, where it may accumulate in leaf vacuoles.
dc.description.abstractUn estudio con diseño de bloques completos aleatorizados con seis concentraciones diferentes de aluminio (Al) se llevó a cabo para evaluar el efecto del aluminio en el contenido de nutrientes, producción de materia seca y la exudación de ácidos orgánicos por inducción de Al en rambután (Nephelium lappaceum). La variedad de rambután cv. Jitlee se cultivó en una solución nutritiva a pH 4.0 con 1.0, 2.3, 4.1, 6.7 y 10.2 mM de Al y sin Al. Los resultados revelaron que todas las variables de crecimiento se redujeron significativamente mientras se aumentaba la concentración de Al de la solución nutritiva. Sin embargo, incluso en una concentración de aluminio de 3.5 mM, las plantas de rambután crecieron relativamente bien, lo que confirma que este cultivo es altamente tolerante a Al, en comparación con otros cultivos. Los análisis de los exudados de raíces para la presencia de ácidos orgánicos no mostraron cantidades detectables en solución. La acumulación de Al en las hojas, tallos y raíces sugiere la existencia de un mecanismo de secuestración de Al en el rambután que puede envolver complejos Al-ligando para translocarlos de las raíces a los tallos y subsecuentemente acumularlo en las vacuolas de las hojas.
dc.language.isoenen_US
dc.subjectAluminum concentrationsen_US
dc.subjectDry matter productionen_US
dc.subjectRambutanen_US
dc.subject.lcshRambutan--Effect of soil acidity onen_US
dc.subject.lcshExudation (Botany)en_US
dc.subject.lcshPlants--Effect of aluminum on.en_US
dc.titleAluminum tolerance, growth, and organic acid exudation in rambutan (Nephelium Lappaceum)en_US
dc.typeThesisen_US
dc.rights.licenseAll rights reserveden_US
dc.rights.holder(c) 2012 Delvis Pérez Almodóvaren_US
dc.contributor.committeeVega, Carmen
dc.contributor.committeeGoenaga, Ricardo
dc.contributor.representativeJoyce, James
thesis.degree.levelM.S.en_US
thesis.degree.disciplineChemistryen_US
dc.contributor.collegeCollege of Arts and Sciences - Sciencesen_US
dc.contributor.departmentDepartment of Chemistryen_US
dc.description.graduationSemesterSpringen_US
dc.description.graduationYear2012en_US


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